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积电中科Fab 15厂及竹科Fab 12厂都有建置EUV曝光机设备,主要提供7+纳米及6纳米晶圆代工,南科Fab 18厂是针对5纳米及3纳米打造的超大型晶圆厂(GigaFab),亦是台积电EUV微影全制程厂区。台积电下半年5纳米进入量产,明年开始建置3纳米生产线,对于EUV曝光机需求大增。据了解,台积电Fab 18厂现阶段已安装18台EUV曝光机,成为全球拥有最大EUV产能的半导体厂。
台积电看好5纳米及3纳米等先进制程未来几年强劲需求,今年资本支出已提高至160~170亿美元,代表对持续增加EUV曝光机采购量。EUV设备大厂ASML为了服务大客户台积电,并就近支援亚太区其它客户,选择在南科设立荷兰以外的首座EUV全球技术培训中心。
ASML全球副总裁暨台湾区总经理陈文光20日在培训中心开幕典礼指出,2010年ASML提供第一台EUV微影设备原型机给台积电进行研发工作,为全球微影技术开创新纪元。2017年ASML交付第一台量产型EUV微影系统给台积电,写下商用EUV制程技术的新里程。台湾EUV曝光机装机规模已领先全球,ASML在南科成立EUV全球技术培训中心,为台湾半导体产业提供更完整的服务。
ASML重申看好EUV曝光机台出货,今年EUV设备产能可支援35台出货量,明年可望再增加至45~50台。由于晶圆代工厂及IDM厂在7纳米及更先进制程需要大量采用EUV技术完成晶圆光罩曝光制程,DRAM厂也开始导入EUV技术,随着台积电、三星、英特尔、SK海力士等国际大厂开始量产,法人看好EUV机台次系统模组代工厂帆宣、极紫外光光罩盒(EUV Pod)供应大厂家登等直接受惠,订单能见度看到年底。
同时,台积电亦藉由干式EUV光罩洁净技术的创新,自2018年导入试产迄今,有效减省水、化学品等能资源使用量,大幅缩短光罩保修频率与时间,除使光罩使用率跃升超过80%,亦延长先进制程EUV光罩寿命,累计创造的改善效益达新台币20亿元。台积电已于今年于Fab 12B厂、Fab 15B厂、Fab 18厂自动化系统导入量产,优化干式EUV光罩技术可分析与清洁小于50纳米落尘。
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